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Advanced Processes 1 (AP1)6 ECTS (englische Bezeichnung: Advanced Processes 1)
(Prüfungsordnungsmodul: Schwerpunktfach Advanced Processes 1)
Modulverantwortliche/r: Robin N. Klupp Taylor Lehrende:
Wolfgang Arlt, Leonid Datsevich, Christoph J. Brabec, Marcus Halik
Startsemester: |
SS 2018 | Dauer: |
1 Semester | Turnus: |
jährlich (SS) |
Präsenzzeit: |
60 Std. | Eigenstudium: |
120 Std. | Sprache: |
Englisch |
Lehrveranstaltungen:
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Vertiefung Thermische Verfahrenstechnik (VL)
(Vorlesung, 3 SWS, Karsten Müller et al., Do, 12:15 - 13:45, KS I; Fr, 10:15 - 11:45, KS I)
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Reactors
(Vorlesung, 1 SWS, Leonid Datsevich, Do, 14:15 - 15:45, 0.111; ab 19.4.2018)
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Thin films: processing, characterization and functionalities.
(Vorlesung, 1 SWS, Christoph J. Brabec et al., Mi, 8:15 - 9:45, 3.71; ab 18.4.2018)
Inhalt:
Advanced Separation Science:
This course improves the survey on thermal separation technology. It includes the knowledge of modern separation processes, e.g. membrane processes, solid-liquid extraction, high pressure extraction, melt crystallization, spray drying. For this separation processes the calculation methods, the technical equipment and industrial examples are given.
Reactors:
• Chemical reactor and catalyst as a result of interdisciplinary knowledge and efforts
• Industrial catalysis
• Types of chemical reactions
• Types of chemical reactors
• Mass and heat balances for ideal reactors Operating under steady-state and unsteady-state conditions
• Divergence of a real reactor from an ideal one
• Safety aspects
• Multiphase catalysis: problems and solutions
• Examples of industrial development: three-phase reactors
Thin films...:
Overview on passive materials in organic electronics (substrates, dielectrics, packaging and encapsulation materials)
Dielectric properties, barrier properties, optical properties
Major thin film fabrication processes (gas phase and solution based)
Printing (gravure, ink-jet, doctor blading) techniques and conditions
Composition of inks, thin film homogeneity and thickness control
Deposition of patterned features
Molecular self-assembly (molecular scale fabrication, applications)…
Lernziele und Kompetenzen:
Advanced Separation Science:
The lecture enables the students to understand the interaction between different separation processes and the possibilities to combine these processes. The objective is the understanding and calculation of limitations by the individual separation technologies and the development of solutions for the different separation demands. The optimization to minimize the energy demand of the processes is a key ability that is gained in the course of this lecture.
Reactors:
The lecture enables the students to strengthen knowledge and competence to theoretically and practically find solutions for challenges in technical chemistry and the development of chemical processes.
Thin films...:
The lecture enables the students in a detailed understanding of thin film processing with major focus on solution based techniques. Conditions, processes and limitations of the corresponding techniques are discussed in order to create homogeneous films and film stacks for application in thin film electronics.
Literatur:
Verwendbarkeit des Moduls / Einpassung in den Musterstudienplan:
- Advanced Materials and Processes (Master of Science with Honours): 2. Semester
(Po-Vers. 2014w | TechFak | Advanced Materials and Processes (Master of Science with Honours) | Masterprüfung | Schwerpunktfächer | Schwerpunktfach Advanced Processes 1)
Studien-/Prüfungsleistungen:
Separation Processes (Prüfungsnummer: 1917)
zugeh. "mein campus"-Prüfung: | - 1917 Separation Processes (Gewichtung: 50.0 %, Prüfung, Form: schriftlich oder mündlich, Drittelnoten (ohne 4,3), Dauer: -, 3.0 ECTS, Prüfung).
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- Untertitel: Oral exam
- Prüfungsleistung, mündliche Prüfung, Dauer (in Minuten): 20, benotet, 3 ECTS
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 50.0 %
- Erstablegung: SS 2018, 1. Wdh.: WS 2018/2019
1. Prüfer: | Wolfgang Arlt (100309) |
Reactors (Prüfungsnummer: 1916)
zugeh. "mein campus"-Prüfung: | - 1916 Reactors (Gewichtung: 25.0 %, Prüfung, Form: schriftlich oder mündlich, Drittelnoten (ohne 4,3), Dauer: -, 1.5 ECTS, Prüfung).
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- Untertitel: Oral exam
- Prüfungsleistung, mündliche Prüfung, Dauer (in Minuten): 10, benotet, 1.5 ECTS
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 25.0 %
- Prüfungssprache: Englisch
- Erstablegung: SS 2018, 1. Wdh.: WS 2018/2019
1. Prüfer: | MAP-Geschäftsstelle (GS_MAP) |
Thin films: processing, characterization and functionalities (Prüfungsnummer: 1918)
(englischer Titel: Thin films: processing, characterization and functionalities)
zugeh. "mein campus"-Prüfung: | - 1918 Thin films: processing, characterization and functionalities (Gewichtung: 25.0 %, Prüfung, Form: schriftlich oder mündlich, Drittelnoten (ohne 4,3), Dauer: -, 1.5 ECTS, Prüfung).
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- Untertitel: Oral exam
- Prüfungsleistung, mündliche Prüfung, Dauer (in Minuten): 10, benotet, 1.5 ECTS
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 25.0 %
- Prüfungssprache: Englisch
- Erstablegung: SS 2018, 1. Wdh.: WS 2018/2019
1. Prüfer: | Christoph J. Brabec (100520) |
Separation Processes (Prüfungsnummer: 1917)
zugeh. "mein campus"-Prüfung: | - 1917 Separation Processes (Gewichtung: 50.0 %, Prüfung, Form: schriftlich oder mündlich, Drittelnoten (ohne 4,3), Dauer: -, 3.0 ECTS, Prüfung).
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- Untertitel: Review
- Prüfungsleistung, Hausarbeit, benotet, 3 ECTS
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 50.0 %
- Erstablegung: SS 2018, 1. Wdh.: WS 2018/2019
1. Prüfer: | Wolfgang Arlt (100309) |
Reactors (Prüfungsnummer: 1916)
zugeh. "mein campus"-Prüfung: | - 1916 Reactors (Gewichtung: 25.0 %, Prüfung, Form: schriftlich oder mündlich, Drittelnoten (ohne 4,3), Dauer: -, 1.5 ECTS, Prüfung).
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- Untertitel: Review
- Prüfungsleistung, Hausarbeit, benotet, 1.5 ECTS
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 25.0 %
- Prüfungssprache: Englisch
- Erstablegung: SS 2018, 1. Wdh.: WS 2018/2019
1. Prüfer: | MAP-Geschäftsstelle (GS_MAP) |
Thin films: processing, characterization and functionalities (Prüfungsnummer: 1918)
(englischer Titel: Thin films: processing, characterization and functionalities)
zugeh. "mein campus"-Prüfung: | - 1918 Thin films: processing, characterization and functionalities (Gewichtung: 25.0 %, Prüfung, Form: schriftlich oder mündlich, Drittelnoten (ohne 4,3), Dauer: -, 1.5 ECTS, Prüfung).
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- Untertitel: Review
- Prüfungsleistung, Hausarbeit, benotet, 1.5 ECTS
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 25.0 %
- Prüfungssprache: Englisch
- Erstablegung: SS 2018, 1. Wdh.: WS 2018/2019
1. Prüfer: | Christoph J. Brabec (100520) |
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