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  Übung zu Optical Lithography [Import]

Dozent/in
PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann

Angaben
Übung
2 SWS, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Zeit und Ort: Fr 14:15 - 15:45, 0.111; Di 16:15 - 17:45, 0.157-115; n.V.

Studienfächer / Studienrichtungen
WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1

Zusätzliche Informationen
Erwartete Teilnehmerzahl: 1

Zugeordnet zu: Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling

Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
Startsemester WS 2019/2020:
Kernfach Mikro- und Nanostrukturforschung für MWT (MNF_M1_MWT)
Optical Lithography (OLITHO)
Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)

Institution: Geschäftsstelle MAOT
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