Übung zu Halbleitertechnologie IV - Optical Lithography (HLT IV - LITHO-Ü) [Import]- Dozent/in
- PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann
- Angaben
- Übung
2 SWS
für FAU Scientia Gaststudierende zugelassen, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Zeit und Ort: Do 12:15 - 13:45, 0.111; n.V.
- Studienfächer / Studienrichtungen
- WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
WF EEI-BA ab 5
WF EEI-MA ab 1
- Zusätzliche Informationen
- Erwartete Teilnehmerzahl: 1
- Zugeordnet zu: Halbleitertechnologie IV - Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling
- Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
- Startsemester SS 2022:
- Halbleitertechnologie IV - Optical Lithography (HLT IV - LITHO)
- Optical Lithography (OLITHO)
- Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)
- Institution: Geschäftsstelle MAOT
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