Advanced Processes (AP)

	Process Technologies [PT] VORL; 2 SWS; Schein; ECTS: 5,0; Mi, 10:15 - 11:45, EE 0.135				PF MAP-S-AP 2	Freund, H. Kaspereit, M.
	Process Technologies Exercises UE; 1 SWS; Schein; Fr, 12:15 - 13:45, T 0.75				PF MAP-S-AP 2	Kaiser, M. Kaspereit, M. Freund, H.
	Reactors [React] VORL; 1 SWS; ECTS: 1,5; findet als Doppelstunde über halbes Semester statt; genaue Termine folgen; Do, 10:15 - 11:45, 0.68; ab 6.6.2019				PF MAP-S-AP 2	Datsevich, L.
	Thin films: processing, characterization and functionalities. VORL; 1 SWS; ECTS: 1,5; Mi, 14:15 - 15:45, 3.71				PF MAP-S-AP 2	Egelhaaf, H.-J.
	Vertiefung Thermische Verfahrenstechnik (VL) VORL; 3 SWS; ECTS: 5; Beginn: 29.04.19, ACHTUNG: Die Sicherheitsbelehrung zum Praktikum (Pflicht!) incl. Gruppeneinteilung findet am Donnerstag, 2. Mai 2019 um 8:15 im KS I, Cauerstraße 4 statt!; Mo, 12:15 - 13:45, H6				PF MAP-S-AP 2	Thommes, M. Müller, K.
	Vertiefung Thermische Verfahrenstechnik (UE) V/UE; 1 SWS; Lehrstuhl für Thermische Verfahrenstechnik, ACHTUNG: Die Sicherheitsbelehrung zum Praktikum (Pflicht!) incl. Gruppeneinteilung findet am Donnerstag, 2. Mai 2019 um 8:15 im KS I, Cauerstraße 4 statt!; Do, 8:15 - 9:45, KS I				PF MAP-S-AP 2	Thommes, M. Müller, K. Kriesten, M.
	Thin films: processing, characterization and functionalities (Extension) VORL; 1 SWS; ben. Schein; ECTS: 1; Vertiefung zur VL Thin films: processing, characterization and functionalities; bitte Dr. Egelhaaf oder Dr. Batentschuk kontaktieren				WPF MAP-S-AP ab 2	Egelhaaf, H.-J.