Übung zu Optical Lithography
- Dozent/in
- PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann
- Angaben
- Übung
2 SWS, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Zeit und Ort: Mo 14:15 - 15:45, Hans-Georg-Waeber-Saal, 0.157-115
- Studienfächer / Studienrichtungen
- WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
- Zusätzliche Informationen
- Erwartete Teilnehmerzahl: 5
- Zugeordnet zu: Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling
- Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
- Startsemester WS 2016/2017:
- Kernfach Mikro- und Nanostrukturforschung für MWT (MNF_M1_MWT)
- Optical Lithography (OLITHO)
- Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)
- Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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